Diseño de un sistema de síntesis de nanohilos de silicio a escala de planta piloto

Abstract

El objeto del presente Proyecto Fin de Carrera es el diseño de un sistema, a escala de planta piloto, de síntesis de nanohilos de silicio (utilizando la tecnología existente para la manufactura de películas del citado semiconductor). En concreto, se utiliza la técnica de deposición química de vapor (CVD), y se incluyen aspectos básicos de las unidades complementarias para el funcionamiento de la línea de proceso, a saber, intercambiadores de calor y transporte de fluidos.