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Teorías para el cálculo del espesor crítico y la deformación residual en intercaras semiconductoras

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Identificadores

URI: http://hdl.handle.net/10498/28119

Files
Formacion de defectos y deformacion residual en Intercaras semiconductoras.ppsx (8.123Mb)
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Metadata
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Author/s
González Robledo, DavidAuthority UCA
Date
2013
Department
Ciencia de los Materiales e Ingeniería Metalúrgica y Química Inorgánica
Abstract
Se presenta los modelos existentes para explicar el inicio y la progresión de la relajación plástica en heteroestructuras semiconductoras. La formación de dislocaciones puede afectar al rendimiento del dispositivo y tiempo de vida. Los electrones interaccionan con las dislocaciones produciendo que los electrones se recombinen con los huecos sin rendir fotones, destruyendo la acción de emisión o absorción óptica; (trampas). Se analizan las distintas etapas de relajación.
Subjects
espesor crítico para la relajación plastica; heteroestructuras semiconductoras
Collections
  • Material Docente CC. Mat. [15]
  • Objetos de Aprendizaje [1159]
Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional
This work is under a Creative Commons License Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional

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