| dc.contributor.author | González Robledo, David | |
| dc.contributor.other | Ciencia de los Materiales e Ingeniería Metalúrgica y Química Inorgánica | es_ES |
| dc.date.accessioned | 2023-03-20T07:45:12Z | |
| dc.date.available | 2023-03-20T07:45:12Z | |
| dc.date.issued | 2013 | |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10498/28119 | |
| dc.description | Se añade la presentación del tema "Teorías para el cálculo del espesor crítico y la deformación residual" perteneciente al curso de Nanomateriales en el programa de doctorado de Ciencia y Tecnologias Químicas. | es_ES |
| dc.description.abstract | Se presenta los modelos existentes para explicar el inicio y la progresión de la relajación plástica en heteroestructuras semiconductoras. La formación de dislocaciones puede afectar al rendimiento del dispositivo y tiempo de vida. Los electrones interaccionan con las dislocaciones produciendo que los electrones se recombinen con los huecos sin rendir fotones, destruyendo la acción de emisión o absorción óptica; (trampas). Se analizan las distintas etapas de relajación. | es_ES |
| dc.format | application/ms-powerpoint | es_ES |
| dc.language.iso | spa | es_ES |
| dc.rights | Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional | * |
| dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/ | * |
| dc.subject | espesor crítico para la relajación plastica | es_ES |
| dc.subject | heteroestructuras semiconductoras | es_ES |
| dc.title | Teorías para el cálculo del espesor crítico y la deformación residual en intercaras semiconductoras | es_ES |
| dc.type | other | es_ES |
| dc.rights.accessRights | open access | es_ES |
| dc.description.physDesc | Fichero PowerPoint con 105 diapositivas. Duración de la actividad: 4 horas | es_ES |