Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante

dc.contributor.author	Guzmán Rabanillo, Desirée	en
dc.contributor.other	Departamento de Ingeniería Química, Tecnología de Alimentos y Tecnologías del Medio Ambiente	en
dc.date.accessioned	2009-05-28T08:08:30Z
dc.date.available	2009-05-28T08:08:30Z
dc.date.created	2004	en
dc.date.issued	2004-01-01T00:00:00Z
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10498/6419
dc.description.abstract	El objeto del proyecto es el diseño y desarrolo de un sistema de deposición química en fase vapor (CVD) asistido por plasma generado con microondas con el fin de hacer crecer diamante sobre un pequeño sustrato de diamante monocristalino.	en
dc.format	application/pdf
dc.language.iso	spa	en_US
dc.relation.ispartofseries	Proyectos de Ingeniería Química	en
dc.relation.ispartofseries	Proyectos fin de carrera UCA	en
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subject	Industria química	en
dc.subject	Diamantes	en
dc.title	Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante	en
dc.type	bachelor thesis	en
dc.rights.accessRights	open access