Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante

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Title: Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante
Author: Guzmán Rabanillo, Desirée
Departments: Departamento de Ingeniería Química, Tecnología de Alimentos y Tecnologías del Medio Ambiente
Abstract: El objeto del proyecto es el diseño y desarrolo de un sistema de deposición química en fase vapor (CVD) asistido por plasma generado con microondas con el fin de hacer crecer diamante sobre un pequeño sustrato de diamante monocristalino.
Subject: Industria química ; Diamantes.
Handle: http://hdl.handle.net/10498/6419
Date: 2004-01-01

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