Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante

Thumbnail
Identificadores

URI: http://hdl.handle.net/10498/6419

Ficheros
Estadísticas
Compartir
Exportar a
EndNoteBibTexRIS
Metadatos
Mostrar el registro completo del ítem
Autor/es
Guzmán Rabanillo, Desirée
Fecha
2004-01-01
Departamento/s
Departamento de Ingeniería Química, Tecnología de Alimentos y Tecnologías del Medio Ambiente
Resumen
El objeto del proyecto es el diseño y desarrolo de un sistema de deposición química en fase vapor (CVD) asistido por plasma generado con microondas con el fin de hacer crecer diamante sobre un pequeño sustrato de diamante monocristalino.
Materias
Industria química; Diamantes
Colecciones