Sistema de deposición quimica en fase vapor para crecimiento homoepitaxial de diamante

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URI: http://hdl.handle.net/10498/6419

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Author/s
Guzmán Rabanillo, Desirée
Date
2004-01-01
Department
Departamento de Ingeniería Química, Tecnología de Alimentos y Tecnologías del Medio Ambiente
Abstract
El objeto del proyecto es el diseño y desarrolo de un sistema de deposición química en fase vapor (CVD) asistido por plasma generado con microondas con el fin de hacer crecer diamante sobre un pequeño sustrato de diamante monocristalino.
Subjects
Industria química; Diamantes
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