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Teorías para el cálculo del espesor crítico y la deformación residual en intercaras semiconductoras

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Identificadores

URI: http://hdl.handle.net/10498/28119

Ficheros
Formacion de defectos y deformacion residual en Intercaras semiconductoras.ppsx (8.123Mb)
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Autor/es
González Robledo, DavidAutoridad UCA
Fecha
2013
Departamento/s
Ciencia de los Materiales e Ingeniería Metalúrgica y Química Inorgánica
Resumen
Se presenta los modelos existentes para explicar el inicio y la progresión de la relajación plástica en heteroestructuras semiconductoras. La formación de dislocaciones puede afectar al rendimiento del dispositivo y tiempo de vida. Los electrones interaccionan con las dislocaciones produciendo que los electrones se recombinen con los huecos sin rendir fotones, destruyendo la acción de emisión o absorción óptica; (trampas). Se analizan las distintas etapas de relajación.
Materias
espesor crítico para la relajación plastica; heteroestructuras semiconductoras
Colecciones
  • Material Docente CC. Mat. [17]
  • Objetos de Aprendizaje [1316]
Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional
Esta obra está bajo una Licencia Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional

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